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    半導體組件空間單位都是以微米計算,因此微塵顆粒沾附在制作半導體組件的晶圓上,便有可能影響到其上精密導線布局的樣式,造成短路或斷路的嚴重后果。所有半導體制程設(shè)備都必須安置在隔絕粉塵進入的密閉空間中,這就是半導體車間凈化的來由。


一、半導體車間實景圖

尖端半導體實景圖

二、凈化原理

    在凈化工程中,含有雜質(zhì)的液化氣體通過第一吸收裝置以去除其液相中的雜質(zhì),從而產(chǎn)生初次凈化流體;使這初次凈化流體通過蒸發(fā)裝置以去除其中的雜質(zhì),從而產(chǎn)生二次凈化氣體;和使二次凈化氣體通過第二吸收裝置以去除其汽相中的雜質(zhì),從而達到凈化效果。


三、技術(shù)要求及功能特點


技術(shù)要求:

  1. 對生產(chǎn)環(huán)境清潔度要求極高;

  2. 選擇不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì)為主;

  3. 恒溫恒濕的系統(tǒng)要求使用;

  4.  所用的原材料需要符合工藝要求;

    功能特點:

  5. 清潔度:半導體工藝對操作室清潔度要求極高,通常使用風機抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣,因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。

  6. 特殊性:所有人或事情進出尖端半導體,必須穿配套防塵服,人或事物都要經(jīng)過風淋室的吹淋已將表面的灰塵清洗掉;

  7. 防靜電:在材質(zhì)選擇方面,應該選擇不易產(chǎn)生靜電吸附的材質(zhì);

  8. 嚴謹性:所有經(jīng)凈化設(shè)備的空氣流動方向均由上往下為主,因此,尖端半導體室內(nèi)空間設(shè)計或機臺擺放應避免突兀,使塵埃細菌等在潔凈無塵車間內(nèi)回旋停滯的機會與時間減至最低程度。


四、應用場景

    半導體車間凈化裝修現(xiàn)在已經(jīng)廣泛運用于制藥工業(yè)、細菌學、生物學、潔凈實驗室等行業(yè)中,隨著半導體凈化裝修日益地朝著高集成度發(fā)展,這就要求各元件尺寸愈來愈微細,而硅片的面積向大型化方向發(fā)展,在一定程度上促進的我國生物工程的發(fā)展。


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